Produk
-
Oksigén (O2)
Oksigén nyaéta gas anu teu warnaan jeung teu bau. Ieu mangrupa bentuk unsur oksigén anu paling umum. Sedengkeun pikeun téknologi, oksigén diekstrak tina prosés pencairan hawa, sareng oksigén dina hawa nyumbang sakitar 21%. Oksigén nyaéta gas anu teu warnaan jeung teu bau kalayan rumus kimia O2, anu mangrupa bentuk unsur oksigén anu paling umum. Titik lééhna nyaéta -218,4°C, sareng titik didihna nyaéta -183°C. Éta henteu gampang leyur dina cai. Sakitar 30mL oksigén leyur dina 1L cai, sareng oksigén cairna warnana biru langit. -
Walirang Dioksida (SO2)
Walirang dioksida (walirang dioksida) nyaéta oksida walirang anu paling umum, paling saderhana, sareng paling ngairitasi kalayan rumus kimia SO2. Walirang dioksida nyaéta gas anu teu warnaan sareng transparan kalayan bau anu nyeureud. Leyur dina cai, étanol sareng éter, walirang dioksida cair relatif stabil, teu aktip, teu gampang kaduruk, sareng henteu ngabentuk campuran anu ngabeledug sareng hawa. Walirang dioksida ngagaduhan sipat pemutih. Walirang dioksida umumna dianggo dina industri pikeun ngamutihkeun bubur, wol, sutra, topi jarami, jsb. Walirang dioksida ogé tiasa ngahambat kamekaran kapang sareng baktéri. -
Étilén Oksida (ETO)
Étilén oksida nyaéta salah sahiji éter siklik anu paling saderhana. Éta mangrupikeun sanyawa hétérosiklik. Rumus kimiana nyaéta C2H4O. Éta mangrupikeun karsinogen toksik sareng produk pétrokimia anu penting. Sipat kimia étilén oksida aktip pisan. Éta tiasa ngalaman réaksi tambahan bubuka cingcin sareng seueur sanyawa sareng tiasa ngirangan pérak nitrat. -
1,3 Butadiena (C4H6)
1,3-Butadiena nyaéta sanyawa organik kalayan rumus kimia C4H6. Éta mangrupikeun gas anu teu warnaan kalayan bau aromatik anu sakedik sareng gampang dicairkeun. Éta kirang toksik sareng toksisitasna sami sareng etilen, tapi gaduh iritasi anu kuat kana kulit sareng mémbran mukosa, sareng gaduh pangaruh anestesi dina konsentrasi anu luhur. -
Hidrogén (H2)
Hidrogén mibanda rumus kimia H2 sarta beurat molekul 2,01588. Dina suhu jeung tekenan normal, éta mangrupa gas anu gampang kaduruk, teu warnaan, transparan, teu bau, jeung teu boga rasa anu hésé leyur dina cai, sarta teu meta réaksi jeung kalolobaan zat. -
Néon (Ne)
Néon nyaéta gas langka anu teu warnaan, teu bauan, teu gampang kabeuleum kalayan rumus kimia Ne. Biasana, néon bisa dipaké salaku gas pangisi pikeun lampu néon warnaan pikeun tampilan iklan luar ruangan, sarta ogé bisa dipaké pikeun indikator cahaya visual jeung pangaturan tegangan. Sarta komponén campuran gas laser. Gas mulia saperti Néon, Krypton jeung Xenon ogé bisa dipaké pikeun ngeusian produk kaca pikeun ningkatkeun kinerja atawa fungsina. -
Karbon Tetrafluorida (CF4)
Karbon tetrafluorida, katelah ogé tetrafluorometana, nyaéta gas teu warnaan dina suhu sareng tekanan normal, teu leyur dina cai. Gas CF4 ayeuna mangrupikeun gas etsa plasma anu paling seueur dianggo dina industri mikroéléktronika. Éta ogé dianggo salaku gas laser, refrigeran kriogenik, pangleyur, pelumas, bahan insulasi, sareng pendingin pikeun tabung detektor infra red. -
Sulfuril Fluorida (F2O2S)
Sulfuril fluorida SO2F2, gas racun, utamina dianggo salaku inséktisida. Kusabab sulfuril fluorida gaduh ciri difusi sareng permeabilitas anu kuat, inséktisida spéktrum lega, dosis anu handap, jumlah sésa anu handap, kecepatan inséktisida anu gancang, waktos dispersi gas anu pondok, panggunaan anu merenah dina suhu anu handap, teu aya pangaruh kana laju pengecambahan sareng toksisitas anu handap, éta beuki seueur dianggo di gudang, kapal kargo, gedong, bendungan waduk, pencegahan rayap, jsb. -
Silana (SiH4)
Silana SiH4 nyaéta gas anu teu warnaan, toksik, sareng aktip pisan dina suhu sareng tekanan normal. Silana seueur dianggo dina kamekaran epitaksial silikon, bahan baku pikeun polisilikon, silikon oksida, silikon nitrida, jsb., sél surya, serat optik, manufaktur kaca berwarna, sareng déposisi uap kimia. -
Oktaflorosiklobutana (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, kamurnian gas: 99,999%, sering dianggo salaku propelan aerosol dahareun sareng gas sedeng. Ieu sering dianggo dina prosés semikonduktor PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapor deposition), C4F8 dianggo salaku gaganti CF4 atanapi C2F6, dianggo salaku gas beberesih sareng gas etsa prosés semikonduktor. -
Oksida Nitrat (NO)
Gas nitrat oksida nyaéta sanyawa nitrogén kalayan rumus kimia NO. Éta mangrupikeun gas bahya anu teu warnaan, teu bau, sareng teu leyur dina cai. Nitrat oksida sacara kimiawi réaktif pisan sareng réaksi sareng oksigén pikeun ngabentuk gas korosif nitrogén dioksida (NO₂). -
Hidrogén Klorida (HCl)
Gas hidrogén klorida HCL nyaéta gas anu teu warnaan kalayan bau anu nyeureud. Leyuran cai na disebut asam klorida, ogé katelah asam klorida. Hidrogén klorida utamina dianggo pikeun ngadamel pewarna, rempah-rempah, ubar, rupa-rupa klorida sareng inhibitor korosi.
