Produk
-
Oksigén (O2)
Oksigén nyaéta gas teu warnaan sareng teu aya bauan. Ieu bentuk unsur paling umum oksigén. Sajauh téhnologi prihatin, oksigén ieu sasari tina prosés liquefaction hawa, sarta oksigén dina akun hawa pikeun ngeunaan 21%. Oksigén nyaéta gas anu teu warnaan sareng teu aya bauan kalayan rumus kimia O2, anu mangrupikeun bentuk unsur oksigén anu paling umum. Titik lebur nyaéta -218,4 ° C, sareng titik didih nyaéta -183 ° C. Éta henteu gampang leyur dina cai. Kira-kira 30mL oksigén leyur dina 1L cai, sarta oksigén cair téh bulao langit. -
Walirang Dioksida (SO2)
Walirang dioksida (sulfur dioksida) nyaéta sulfur oksida anu paling umum, paling basajan, sareng ngaganggu kalayan rumus kimia SO2. Walirang dioksida nyaéta gas anu teu warnaan sareng transparan kalayan bau anu seukeut. Leyur dina cai, étanol jeung éter, walirang dioksida cair rélatif stabil, teu aktif, non-combustible, sarta teu ngabentuk campuran ngabeledug jeung hawa. Walirang dioksida miboga sipat pemutihan. Walirang dioksida ilahar dipaké dina industri pikeun ngabodaskeun bubur, wol, sutra, topi jarami, jsb Walirang dioksida ogé bisa ngahambat tumuwuhna kapang jeung baktéri. -
Étiléna Oksida (ETO)
Étiléna oksida mangrupa salah sahiji éter siklik pangbasajanna. Ieu sanyawa hétérosiklik. Rumus kimiana nyaéta C2H4O. Éta karsinogén toksik sareng produk pétrokimia anu penting. Sipat kimia étiléna oksida aktip pisan. Ieu bisa ngalaman réaksi tambahan ring-bukaan kalawan loba sanyawa sarta bisa ngurangan pérak nitrat. -
1,3 Butadiena (C4H6)
1,3-Butadiena nyaéta sanyawa organik kalayan rumus kimia C4H6. Ieu mangrupakeun gas teu warnaan jeung bau aromatik slight sarta gampang liquefy. Éta kirang toksik sareng karacunanna sami sareng étiléna, tapi gaduh iritasi kuat kana kulit sareng mémbran mukosa, sareng gaduh pangaruh ubar keur ngabius dina konsentrasi luhur. -
Hidrogen (H2)
Hidrogen boga rumus kimia H2 jeung beurat molekul 2,01588. Dina suhu sareng tekanan normal, éta mangrupikeun gas anu gampang kaduruk, teu warnaan, transparan, teu aya bauan sareng hambar anu hese leyur dina cai, sareng henteu ngaréaksikeun sareng kalolobaan zat. -
Neon (Neon)
Neon nyaéta gas langka anu teu warnaan, henteu bau, teu kaduruk kalayan rumus kimia Ne. Biasana, neon tiasa dianggo salaku gas keusikan pikeun lampu neon berwarna pikeun tampilan iklan luar, sareng ogé tiasa dianggo pikeun indikator lampu visual sareng pangaturan tegangan. Jeung laser komponén campuran gas. Gas mulya sapertos Neon, Krypton sareng Xenon ogé tiasa dianggo pikeun ngeusian produk kaca pikeun ningkatkeun kinerja atanapi fungsina. -
Karbon Tétrafluorida (CF4)
Karbon tetrafluorida, ogé katelah tetrafluorometana, nyaéta gas teu warnaan dina suhu sareng tekanan normal, teu leyur dina cai. Gas CF4 ayeuna mangrupikeun gas etching plasma anu paling seueur dianggo dina industri microelectronics. Éta ogé dianggo salaku gas laser, refrigerant cryogenic, pangleyur, pelumas, bahan insulasi, sareng coolant pikeun tabung detektor infra red. -
Sulfuril Fluorida (F2O2S)
Sulfuryl fluoride SO2F2, gas beracun, utamana dipaké salaku inséktisida. Kusabab sulfuryl fluoride boga ciri difusi kuat sarta perméabilitas, lega-spéktrum inséktisida, dosage low, jumlah residual low, speed insécticidal gancang, waktos dispersi gas pondok, pamakéan merenah dina suhu low, euweuh pangaruh dina laju pengecambahan jeung karacunan low, beuki Hal ieu beuki loba dipaké di gudang, kapal kargo, wangunan, bendungan waduk, pencegahan rinyuh, jsb. -
Silana (SiH4)
Silane SiH4 nyaéta gas dikomprés teu warnaan, toksik sareng aktip pisan dina suhu sareng tekanan normal. Silane loba dipaké dina tumuwuhna epitaxial tina silikon, bahan baku pikeun polysilicon, silikon oksida, silikon nitride, jsb, sél surya, serat optik, manufaktur kaca berwarna, sarta déposisi uap kimiawi. -
Octafluorocyclobutane (C4F8)
Octafluorocyclobutane C4F8, purity gas: 99,999%, mindeng dipaké salaku propelan aerosol dahareun jeung gas sedeng. Hal ieu mindeng dipaké dina semikonduktor PECVD (Plasma Enhance. déposisi uap Kimia) prosés, C4F8 dipaké salaku diganti pikeun CF4 atanapi C2F6, dipaké salaku gas beberesih sarta prosés semikonduktor etching gas. -
Nitrat Oksida (NO)
Gas oksida nitrat nyaéta sanyawa nitrogén kalayan rumus kimia NO. Éta mangrupikeun gas anu teu warnaan, teu aya bauan, beracun anu teu leyur dina cai. Nitrat oksida sacara kimiawi réaktif pisan sareng ngaréaksikeun sareng oksigén pikeun ngabentuk gas korosif nitrogén dioksida (NO₂). -
Hidrogen Klorida (HCl)
Hidrogen klorida Gas HCL nyaéta gas teu warnaan sareng bau anu seukeut. Leyuran cai na disebut asam hidroklorat, ogé katelah asam hidroklorat. Hidrogén klorida utamana dipaké pikeun nyieun dyes, rempah, ubar, rupa-rupa klorida jeung sambetan korosi.
